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核心製程 核心製程

PVD

• PVD 簡介:
 
       利用物理過程實現物質轉移,將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以使基材的特殊性能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)透過微粒噴塗在工件上, 使得工件具有更好的性能。比起水電鍍 ,PVD鍍膜膜層與工件表面的結合力更大,膜層的硬度更高,耐磨性和耐腐蝕性更好,膜層的性能也更穩定, PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛,可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮,PVD鍍膜不會產生有毒或有污染的物質。
 
        PVD鍍膜膜層的厚度為微米級, 厚度較薄,一般為0.1μm~5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.1μm~1μm,因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能, 並能夠維持工件尺寸基本不變,鍍後不須再加工。